Собянин сообщил о создании в Москве уникального оборудования для микросхем

Об этом сообщил мэр Сергей Собянин в своем канале в Telegram. Он отметил, что в мире сейчас менее 10 стран, способных самостоятельно производить такое оборудование для создания микросхем, и Россия теперь в их числе. Собянин подчеркнул, что разработка фотолитографа стала важным шагом к достижению государственной самодостаточности в производстве микроэлектроники. Устройство было создано в сотрудничестве с белорусским предприятием, имеющим большой опыт в этой области. Мэр отметил, что новый фотолитограф отличается от зарубежных аналогов, поскольку в нем впервые использован твердотельный лазер вместо ртутной лампы, что делает его мощным, энергоэффективным, долговечным и с более узким спектром излучения. Собянин также сообщил, что уже найден заказчик для российского фотолитографа, и в настоящее время специалисты работают над адаптацией технологических процессов к потребностям конечного потребителя. Кроме того, в России ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров, завершить которую планируется к 2026 году. Ранее Собянин сообщил, что объем высокотехнологичного производства в Москве увеличился вдвое к концу 2024 года. Этот рост был обусловлен производством коммуникационного и периферийного оборудования, компьютерной техники, часов, контрольно-измерительных и навигационных приборов, элементов электроники и печатных схем.